气相色谱出现“N“ 或 “W”峰及舌头峰的原因
更新更新时间：2021-11-17
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一、"N" 或 “W”峰出现的原因
1、TCD操作，用N2作载气由于热传导率非线性引起；
2、FID操作时，样品溶剂电离效率低(如CS2)，或气流比欠佳时；
3、ECD操作时，由于检测器被污染，溶剂峰或待测组分含量较高，或脉冲电源有毛病。
二、舌头峰(前延峰)出现的原因
1、汽化温度偏低；
2、载气流量小：
3、进样量大，汽化时间长；
4、汽化室被污染，样品有吸附效应；
5、样品在柱头有冷凝或色谱柱被污染；
6、进样技术差(挥发性组分的进样速度太慢)；
7、峰前出现了“鬼”峰。
